放電等離子燒結(jié)(sps)制備陶瓷顆粒增強(qiáng)tial金屬間化合物基復(fù)合材料的研究

放電等離子燒結(jié)(sps)制備陶瓷顆粒增強(qiáng)tial金屬間化合物基復(fù)合材料的研究

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1、摘要本研究基于目前國內(nèi)外對TiAl及其復(fù)合材料研究動態(tài)的基礎(chǔ)上,采用放電等離子燒結(jié)技術(shù)(SPS),利用TiAI、TiC及其Nb、B合金元素,基于材料復(fù)合和合金化的思路,首次探索制備TiC/TiAI、Ti2AlCfriAl金屬間化合物基復(fù)合材料,旨在通過TiC和Ti2A1C陶瓷顆粒來提高TiAl金屬間化合物的室溫強(qiáng)度,改善其室溫韌性,并探討其強(qiáng)韌化機(jī)理。采用放電等離子燒結(jié)(SPS)技術(shù),首次制備了不同TiC含量的TiC/TiAl復(fù)合材料,并研究了TiC含量對復(fù)合材料力學(xué)性能的影響。TiC/TiAI復(fù)合材料的抗彎強(qiáng)度和斷裂韌性均隨T

2、iC的加入量,先增加后降低,并在TiC含量為7%時,復(fù)合材料的綜合力學(xué)性能達(dá)到最佳值,彎曲強(qiáng)度為845.47MPa、斷裂韌性值達(dá)到19.8MPa.m“2。與TiAI金屬間化合物相比,室溫抗彎強(qiáng)度提高31.5%,斷裂韌性提高63.6%,復(fù)合材料的顯微硬度隨TiC含量的增加而提高。XRD分析表明,所得的復(fù)合材料中含有TiAt、TiC和少量Ti3A1。.在TiC/TiAI復(fù)合材料中,大部分TiC顆粒均勻彌散分布在TiAl晶界,少量小尺寸顆粒存在于TiAI基體內(nèi)部,形成包晶結(jié)構(gòu);在燒結(jié)過程中TiC可以阻礙TiAI晶粒的氏大,顯著細(xì)化了T

3、iAI基體組織,同時形成了有效的位錯強(qiáng)化機(jī)制。細(xì)晶強(qiáng)化、彌散強(qiáng)化以及位錯的偏析、塞積,被釘扎以及各種位錯的交互作用是復(fù)合材料增強(qiáng)增韌的主要機(jī)制。利用SPS制備TiC/TiAI復(fù)合材料的基礎(chǔ)上,創(chuàng)新性的研究合金元素Nb、B對復(fù)合材料力學(xué)性能的影響,制備出Ti2AIC/TiAl復(fù)合材料。實驗結(jié)果表明:與摻量為7%TIC的復(fù)合材料相比,制各Ti2AIC/TiAI復(fù)合材料的力學(xué)性能顯著提高,單摻Nb、B制各的Ti2A1C/TiAl復(fù)合材料的彎曲強(qiáng)度由原來的845.472MPa分別增加到915MPa、906MPa,提高了8.27%、7.1

4、l%。斷裂韌性則由19.8MPa·m№增加到22.89MPa.mm、24.63MPa·m“2,分別提高15.6%、24.39%。通過設(shè)計正交實驗研究了合金元素Nb、B、TiC的含量及燒結(jié)溫度對復(fù)合材料力學(xué)性能的影響,從而確定Ti2AIC/TiAI復(fù)合材料制備的最佳方案:TiC顆粒以及合金元素Nb、B摻入的最佳比例為7%、5%、0.35%,燒結(jié)溫度為1100。C;復(fù)合材料的力學(xué)性能顯著提高,斷裂韌性高達(dá)26.78MPa.mm,彎曲強(qiáng)度為954.32MPa,比TiC/TiAl復(fù)合材料分別提高了35.25%、12.87%,而復(fù)合材料的

5、顯微硬度的提高則不是很顯著。合金元素Nb、B的對TiAl基復(fù)合材料的影響主要存在兩個方面:一方面有效改1放電等離子燒結(jié)(SPS)制備陶瓷顆粒增強(qiáng)TiM金屬間化合物基復(fù)合材料的研究善復(fù)合材料中TiC與TiAI界面結(jié)合情況,即通過形成界面產(chǎn)物Ti2AIC,改善TiAI與TiC物相潤濕’陛。XRD衍射分析表明復(fù)合材料體系物相含有TiAl、Ti2AIC和少量Ti3A】物相。原位生成三元化合物Ti2AIC,與基體有著較好的界面結(jié)合,同時也是一種比較理想的陶瓷增強(qiáng)顆粒,有效改善了兩相界面的高溫潤濕性的同時起到了很好的增強(qiáng)作用。另一方面合金元

6、素Nb、B的摻入可以有效強(qiáng)化基體,改善基體性質(zhì)。Nb原子通過占據(jù)Ti原子的位置采取置換固溶的方式進(jìn)入TiAI晶格,而B原子由于半徑比較小,所以采取間隙固溶的方式進(jìn)入晶格,并分別通過置換強(qiáng)化與固溶強(qiáng)化機(jī)制改善復(fù)合材料TiAl金屬間化合物的性質(zhì),有利于Ti2A1C/TiAI復(fù)合材料力學(xué)性能的提高。HREM觀察分析知Ti2AIC000)晶面間距為O.2648nm,TiAI(110)的晶面問距為O2991nm,沿相界兩側(cè)的原子部分互相匹配,形成半共格關(guān)系。因此可以計算界面品格錯配度6=12.1%為半共格結(jié)構(gòu)。復(fù)合材料中TiAl晶界,經(jīng)測

7、量晶面間距分別為0.2462nm、O,2631nm,界面錯配度為5=6,6%,因此證明界面結(jié)合為共格界面。通過過渡區(qū)域的IFFT觀察可以看出晶界的結(jié)合存在一定的畸變,原子排列總體上是??對應(yīng)的,形成共格關(guān)系。關(guān)鍵詞:金屬間化臺物;TiAI基復(fù)合材料;放電等離子燒結(jié)技2t(SPS):力學(xué)性能合金元素;II濟(jì)南大學(xué)碩士學(xué)位論文ABSTRACTBasedoncomprehensiveresearchaboutTiAlintermetallicandTiAl—basedcompositesintheworld,TiC]TiM,Ti2AI

8、CJTiAtcompositesforthefirsttimewerepreparedbySparkPlasmaSinteringtechnique(SPS)withTiAl,TiCandalloyingelementsNb,Basrawmaterialsinv

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