GBT 16841-2008 能量為 300 keV～25 MeV 電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則

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1、ICS17．240A58中華人民共和／，、7-lH鱈雪國國家標(biāo)準(zhǔn)GB／T16841--2008／ISO／ASTM51649：2005代替GB／T158411997能量為300keV～25MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則Guidefordosimetryinanelectronbeamfacilityforradiationprocessingatenergiesbetween300keVand25MeV(ISO／ASTM51649：2005，Standardpracticefordosimetryinanelectronbeamfacilityfo

2、rradiationprocessingatenergiesbetween300keVand25MeV，IDT)2008—09—19發(fā)布2009—08—01實施中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局當(dāng)士中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會及仲目次GB／T16841--2008／ISO／ASTM51649：2005前言???????????-???????????????????1范圍????????????????????????????·．2規(guī)范性引用文件???-?????-????????????????··3術(shù)語與定義???????????????????

3、???????··4意義和用途???????????????????????????·5輻射源特性·???????????????????????????6輻照裝置的主要類型??----???????????????????7劑量測量系統(tǒng)????????????-?????---??????··8加工參數(shù)?????????????????-????????-9安裝確認(rèn)?-???????????????????????????10運行確認(rèn)?????????????????--???????11性能確認(rèn)??????????????????????????

4、??·12日常生產(chǎn)加工??·?????????????????????·13測量不確定度??????????--???????????-????14證書????????????????????????????··15關(guān)鍵詞??????????????????·?????????·-附錄A(資料性附錄)電子束深度劑量分布、材料加工產(chǎn)率和輻射加工期間的溫升附錄B(資料性附錄)束寬度及束寬度劑量不均勻度的測量????????附錄C(資料性附錄)通過深度劑量分布確定電子束能量?????????··附錄D(資料性附錄)能量大于300keV的電子加速器的特性??

5、?????·參考文獻(xiàn)???--?????????????????????-?????Ⅲ●●0，，000¨地nMM¨撕孫孫踮刖罱GB／T16841--2008／ISO／ASTM51649：2005本標(biāo)準(zhǔn)等

6、司采用ISO／ASTM51649：2005(能量為300keV～25MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則》(英文版)。為便于使用，本標(biāo)準(zhǔn)做了下列編輯性修改：a)按照漢語習(xí)慣對?些編寫格式進(jìn)行了修改。b)對于ISO／ASTM51649：2005引用的其他國際標(biāo)準(zhǔn)中有被等同采用為我國標(biāo)準(zhǔn)的，本部分用引用我國的這些國家標(biāo)準(zhǔn)或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)代替對應(yīng)的國際標(biāo)準(zhǔn)，其余未

7、有等效采用為我國標(biāo)準(zhǔn)的國際標(biāo)準(zhǔn)，在本標(biāo)準(zhǔn)中均被直接引用。c)原國際標(biāo)準(zhǔn)中的附錄編號A1、A2、A3、A4改為附錄A、附錄B、附錄C、附錄D。本標(biāo)準(zhǔn)代替GB／T1684119976能量為300keYs25MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則》。本標(biāo)準(zhǔn)與GB／Tl68411997相比主要變化如下：重新規(guī)定了標(biāo)準(zhǔn)的適用“范圍”(1997版的第1章；本版的第2章)；增加了部分術(shù)語，并對原標(biāo)準(zhǔn)的部分術(shù)語進(jìn)行了重新定義(本版第3章)；增加了“劑量計系統(tǒng)的校準(zhǔn)”條和具體的要求(見本版的7．3．1，7．3．2，7．3．3，注4)；用“安裝確認(rèn)”、“運行確認(rèn)”、“性能確

8、認(rèn)”和“日常生產(chǎn)加工”替代了“裝置確認(rèn)”、“加工確認(rèn)”和“日常生產(chǎn)加工”(見1997版的第7章、第8章、第9章；本版的第9章、第10章、第11章、第12章)；增加了“加工參數(shù)”章和相關(guān)內(nèi)容(見本版第8章)；增加了不確定度的分類標(biāo)準(zhǔn)和評定準(zhǔn)則(見第13章)；細(xì)化了用深度劑量分布方法確定電子束初始能量的方法和條件(見本版附錄A)；熏新描述了“微波功率加速器”和“射頻功率型加速器”的性能特征(見本版附錄D中D．1．2和D．1．3)。本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A、附錄B、附錄c和附錄D為資料性附錄。本標(biāo)準(zhǔn)由全國核能標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國核能標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口

9、。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：中國計量科學(xué)研究院。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：張彥立、張輝、龔曉明、劉智綿、夏渲。本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)